Anybus Communicator助力CVD薄膜制备设备接入西门子PLC

前言

CVD 薄膜制备设备是指用于化学气相沉积（CVD）过程的设备，其在基材表面沉积薄膜或涂层，是半导体制造中的关键设备。随着市场需求和技术发展不断增长，该设备的重要性日益凸显。设备通常包括反应室、气体输送系统、真空系统、控制系统和废气处理系统。控制系统一般选用PLC 作为主控装置，而在客户现场，控制系统内子设备（例如质量流量计和阀岛）的通信接口协议为EtherCAT。这使得客户的主站方案选择非常受限，必须使用EtherCAT 主站方案，如倍福PLC。

然而，薄膜制备量产后，倍福PLC 的货期普遍较长，且价格较高。因此，客户希望选择西门子产品作为兼容方案，以满足其对性价比和交货期的要求。这一选择不仅能够优化成本，还能确保生产的持续性和设备的高效运行。

 

客户面临的通信挑战

• 如何将EtherCAT 协议转换成PROFINET 协议，让设备与西门子PLC 通信。
• 半导体设备要求非常严苛，需要稳定可靠的通信解决方案。
• 开发周期短，产品需快速面向市场。

HMS解决方案

经过多种方案对比，客户最终选择了Anybus Communicator ABC3113-A 产品。这一产品成功实现了薄膜制备设备控制系统中质量流量计（约36 台）和阀岛与西门子S7-1500 的通信。其基本架构图如下所示：

 

 

HMS方案特点

 

超强性能，稳定可靠！

• 最小循环时间1ms
• 可连接多达24个EtherCAT从设备
• 在线监控EtherCAT从设备状态

宽温参数和大数据量，专门针对工业应用！

• 工作温度-25℃ 至 +70℃
• 双向各传输多达 1024 字节的数据

成果

ABC3113-A 让客户CVD 薄膜制备设备快速上市，并在现场稳定、可靠运行。因为既可以选择倍福方案，又可以选择西门子方案，客户供应货期和成本都得到了非常好的优化，截止目前客户已成功出货数台CVD 薄膜制备设备。

 

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